四位摄影师入选2010惠特尼双年展

惠特尼美国艺术博物馆(Whitney Museum of American Art)宣布了2010年惠特尼双年展参展艺术家名单，Nina Berman、James Casebere、Ari Marcopoulos、Stephanie Sinclair四位摄影师作品入选。这也是第二次James Casebere和Ari Marcopoulos同时入选惠特尼双年展。

惠特尼双年展是北美地区最受重视的艺术展览之一，参展作品包括录像，绘画，素描，装置，建筑，摄影，表演等各种形式。本届策展人为意大利独立策展人Francesco Bonami以及惠特尼高级策展助理Gary Carrion-Murayari，在经济不景气的情况下，规模与往届相比明显缩小，下降至55位，并且每位艺术家只展出一件作品，将于明年2月25日至5月39日在惠特尼艺术博物馆举办。本文为《中国摄影》网站原创文章，转载时请注明出处并给出链接。

除了上面提到的摄影师以外，本次参展艺术家中与摄影相关的还包括以物影摄影技法进行创作的艺术家Josh Brand，和拼贴艺术家Curtis Mann，制片人Babette Mangoite，混合媒体艺术家Josephine Meckseper等人。

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